The difference between continuous laser cleaning machine and pulse laser cleaning machine_Blog

によって創始者オン 2025年9月19日

連続レーザークリーニング機械とパルスレーザークリーニング機械は,レーザークリーニング技術の2つの主要なタイプです.それらは主に表面汚染物を除去するために使用され、工業製造、自動車修理、文化遺産保存で広く使用されています。2つの主要な違いは,レーザー出力モードにあります.連続レーザーは,大きな領域の迅速なクリーニングに適した安定した連続ビームを提供します.パルスレーザーは高エネルギーで短いパルスを提供し,精密な制御と最小限の熱損傷を強調します.

	連続レーザークリーナー（CW）	パルスレーザークリーニングマシン（パルスされた）
機能方法	連続的なビーム熱伝達は汚染物質を蒸発させる	エネルギーの短いパルスは即座に汚染物を除去します
レーザー出力	安定して連続的な波長1064nm	高エネルギーパルス、パルス幅ns-μs、周波数kHz-MHz
パワー範囲	500-2000W	100-1000W（ピークkW）
クリーニング効率	高（大面積、m/minレベル）	中から高（精度、cm/sレベル）
熱影響地帯	より大きい（0.5-1mm、変形することができます）	非常に小さい（<0.2mm、ほとんど損傷なし）
アプリケーションシナリオ	プラスチック/大面積のクリーニング（自動車シェル、パイプなど）	金属/精密クリーニング（電子板、文化遺物など）
利点	高速、低コストおよび簡単な操作	正確で損傷のない多材料互換性
欠点	大きくて不均等な熱損傷	遅く、高価で、複雑
開発トレンド	高電力自動化	ナノ秒パルス、多機能統合